"); //-->
在 LTPS 制造过程中,使用自对准掩模通过离子注入来金属化有源层。当通过 TRCX 计算电容时,应用与实际工艺相同的原理。工程师可以根据真实的 3D 结构提取准确的电容,并分析有源层离子注入前后的电位分布,如下图所示。
编辑
(a)FIB
(b) 掺杂前后对比
*博客内容为网友个人发布,仅代表博主个人观点,如有侵权请联系工作人员删除。
1735892570 阅读:3069
1432534735 阅读:7136
1744855079 阅读:11919
1721030087 阅读:12060